在半導(dǎo)體制造技術(shù)中，通過(guò)一系列的光刻、刻蝕、沉積、離子注入、研磨、清洗等工藝形成具有各種功能的半導(dǎo)體芯片，然后將所述半導(dǎo)體芯片進(jìn)行封裝和電性測(cè)試，并形成終端產(chǎn)品。目前，在半導(dǎo)體芯片的制造過(guò)程中，會(huì)產(chǎn)生大量的工業(yè)廢水。

現(xiàn)代污水處理技術(shù)

按半導(dǎo)體污水處理企業(yè)的特點(diǎn)，將半導(dǎo)體廢水分為三大類(lèi)，分別來(lái)自于生產(chǎn)過(guò)程中產(chǎn)生的含氟廢水、有機(jī)廢水和金屬離子廢水。

一是含氟廢水，廢水主要來(lái)自半導(dǎo)體生產(chǎn)工序的腐蝕段，由于使用了大量的氫氟酸、氟化銨等試劑，污染物濃度較高，如氟、氨等，廢水一般呈強(qiáng)酸性；

二是有機(jī)廢水，其污染物主要是一些常規(guī)污染物，生產(chǎn)濃度與生產(chǎn)工藝和運(yùn)行管理水平密切相關(guān)，COD一般在200~3000mg/L；

三是金屬離子廢水，半導(dǎo)體生產(chǎn)廢水中的金屬離子種類(lèi)很多，主要有銅、鎳、錫、鉛、銀等，一般濃度在幾十mg/L左右。

四是含氨廢水，含氨廢水主要污染物是氨氮，濃度一般在100-300mg/L

含氟廢水一般采用化學(xué)沉降法，投加鈣鹽和水中氟離子形成CaF2，再配以混凝劑輔助可除去水中氟離子。出水率要求高時(shí)，可與生化法、吸附法等聯(lián)合使用。

一般采用經(jīng)濟(jì)生化處理方法處理有機(jī)廢水，如分別好氧法或與缺氧厭氧法結(jié)合處理，對(duì)廢水中COD、氨氮、總氮等常規(guī)污染物的去除效果十分可觀。

對(duì)于金屬離子廢水，則需要根據(jù)廢水的不同種類(lèi)進(jìn)行選擇，常用的有化學(xué)沉降法，吸附法，離子交換法等。半導(dǎo)體工業(yè)生產(chǎn)對(duì)水的需求很大，對(duì)水的要求也不高，為了節(jié)約生產(chǎn)成本，一般建議采用廢水回用處理。

含氨廢水的處理，根據(jù)廢水中氨氮含量選擇不同的工藝，常用的有吹脫法，化學(xué)沉降法，折點(diǎn)加氯法等，幾種工藝均能實(shí)現(xiàn)氨氮的去除。